離子滲氮時需要在真空設備中加入滲氮氣源以達到工件表面滲氮的目的，常加入的氣氛有氨氣、氮氣、氫氣、甲烷和氬氣。小編對離子滲氮常用氣氛進行了整理，希望對大家有所幫助。
        1、氨氣。液氨是我國生產上應用最廣泛的滲氮氣源，通常把液氨汽化成氨氣作為滲氮源。氨氣價格低廉、來源廣泛，但有很多缺點，如滲氮層脆性較大（和熱分解氨比）。氨在爐內的分解率隨進氣量，溫度和起輝面積而變，進氣口處分解率最低，抽氣口處氨分解率最高，因此爐內各處的氣體的成分是不同的，對輝光放電特性產生影響，造成零件表面電流密度不均勻。從真空泵中排出的廢氣中含有相當數量未分解的氨氣，造成環境污染。
        2、氮氣和氫氣。離子滲氮時，氫作為稀釋氣體加入，可調節滲氮氣氛的氮勢，很容易控制滲氮層的組織。氫氣起還原零件表面氧化物的作用，以獲得“活性”的表面，降低設備對漏氣率的要求。氮氣和氫氣對環境沒有污染，在離子滲氮負壓下使用氫氣也是安全的。
        3、甲烷。氣氛中加入甲烷，即為離子氮碳共滲，又稱離子軟氮化。離子軟氮化溫度較高，滲速較快，可以有效的縮短生產周期。氮中含有碳的氣氛，還可降低工件表面的氮化脆性。
        4、氬氣。氬氣可作為氮的稀釋氣體，氬氣的加入有使輝光收縮的作用，容易使工件的小孔、溝槽滲氮，提高工件的離子滲氮的整體氮化效果。
        青島豐東熱處理生產的外輔助加熱式離子氮化爐配備獨立的氣路柜，配備包括氫氣、氨氣、甲烷、氮氣、氬氣五種介質。以上是小編對“常用于離子滲氮的氣氛”的介紹，如需了解更多離子氮化相關信息，請關注本網站。